据Cnbeta网4月16日消息，三星宣布完成5nm极紫外线光刻（EUV）工艺技术的开发，将迅速把该技术应用于芯片制造。三星预计在2019年下半年完成5nm芯片生产线的建设，2020开始正式投入使用。5纳米EUV技术是当前业界最先进的芯片制造技术，可为芯片带来更低的功耗和更优异的性能。三星表示，相较于7nm工艺技术，5nm工艺技术可让同等芯片功耗降低20%，性能提高10%。

https://www.cnbeta.com/articles/tech/837943.htm