中美联合开发高速纳米3D打印技术,速度快1000倍

2019-10-07  全球 来源:中国3D打印网 领域:先进制造

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据中国3D打印网10月7日消息,香港中文大学和美国劳伦斯利佛莫尔国家实验室的研究人员开发出一种新的纳米级3D打印技术——飞秒投影双光子光刻(FP-TPL)。该技术能够在不牺牲分辨率的情况下实现微小结构的高速制造,其速度比已有的双光子光刻技术(TPL)快1000倍。FP-TPL技术能够在8分钟内打印出过去需花数小时完成的打印结构,其在微小零部件的规模化生产,生物支架、柔性电子器件、电化学界面、微光学元件、机械和光学超材料以及其他功能性微结构和纳米结构部件的制造中具有应用潜力。

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