美国研究人员为电子离子对撞机开发阴极涂层

2021-09-23  美国 来源:其他 作者:李维科 领域:新材料

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据布鲁克海文国家实验室(BNL)网站9月20日消息,创新公司Euclid Techlabs获得美国能源部颁发的小企业研究创新奖(SBIR),与BNL合作开发二维材料六方氮化硼(hBN)薄膜涂层,以延长BNL的电子离子对撞机(EIC)的阴极寿命。Euclid Techlabs研究部副主任Ao Liu团队利用二维保护层材料hBN构建射频(RF)磁控溅射源,射频电场加速离子向包含要沉积材料的目标方向移动,从表面喷射(溅射)原子,这些原子沉积在基板上形成薄膜。而BNL对撞机加速器部助理研究员Mengjia Gaowei团队则利用二维薄膜湿转移技术使铯移动到hBN层下方,以受控方式与锑层发生反应,形成碱性锑化物光电阴极并覆盖hBN薄膜涂层。

消息来源:https://www.bnl.gov/newsroom/news.php?a=218851