据中国科技网10月9日消息，美国东北大学研究人员队发现了一种新形式的高密度硅，并开发出一种新型可扩展的无催化剂蚀刻技术，能将这种硅制成直径为2-5纳米的超窄硅纳米线。此前，美国东北大学研究人员在实验中发现了拥有极细线状纳米结构的硅材料。经测试，这种材料拥有高压缩结构，尺寸比普通硅小10%-20%，而普通硅在这种压缩状态下通常不稳定。同时，这种硅材料还具有4.16电子伏特（eV）的超宽禁带宽度，可以在高功率、高温和高频下工作。在最新研究中，研究团队发明了一种生产硅纳米线的化学气相蚀刻方法，无需催化剂，可制造出仅为目前商用硅纳米线1/20到1/10宽度的纳米线，用于新型硅材料的加工，服务于晶体管、二极管等器件的制造。此外，由于新型硅纳米线的尺寸非常小，足以产生量子效应，可用于量子计算领域的研究。

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