2023-03-23 美国 来源：其他 作者：刘纪铖 领域：信息
关键词：
据TechWeb网3月22日消息，美国英伟达公司（NVIDIA）推出软件加速库cuLitho，可将光刻技术中的计算光刻工序提速40倍。计算光刻是芯片光刻中制作光掩模的技术。掩膜是一种平面透明或半透明的光学元件，上面有芯片加工所需的图案，按照是否需要曝光可将图案转移到光刻胶层上。英伟达表示，此前计算光刻依赖于CPU服务器集群，现在NVIDIA的500套人工智能基础平台DGX H100就可完成与4万颗CPU运算服务器相同的工作量，且速度快40倍，功耗低9倍。NVIDIA首席执行官黄仁勋表示，NVIDIA已经和阿斯麦（ASML）、台积电以及新思科技签署技术合作协议，新思甚至已经将该技术集成到其电子设计自动化（EDA）工具中，未来将服务于2nm甚至更高精度的制程。
