据《科技日报》4月7日报道，中科院光电技术研究所微电子专用设备研发团队自主研制出一种新型紫外纳米压印光刻机，将原光刻设备的对准精度由亚微米级提升至纳米级，而设备成本仅为国外同类设备1/3，目前已完成初试和小批生产。该设备将推动我国芯片加工等微纳级结构器件制造水平迈上新台阶。

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