2023-11-18 韩国 来源:其他 作者:李维科 领域:新材料
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据phys.org网11月15日消息,韩国蔚山科学技术院(Ulsan National Institute of Science and Technology,UNIST)的研究人员开发出一种用于辐射防护的MXene-碳化硼复合中子屏蔽膜,该屏蔽膜厚度仅为数十微米,可有效阻挡辐射中的中子。研究人员直接合成了二维纳米材料MXene和母体MAX相,将碳化硼通过超声处理和离心分离分成能够吸收中子的小颗粒并均匀分散在溶液中,通过控制MXene和碳化硼的性能提高混合溶液的稳定性,制备出一种大面积、柔性、轻质、结构致密的薄膜,再通过涂漆技术将薄膜应用于不同的表面。该薄膜表现出优异的机械性能和中子屏蔽率(对241Am-9Be源发射中子的吸收能力为39.8%),且不需要复杂的设备和工艺即可在表面形成所需厚度和面积的中子屏蔽涂层薄膜,具备大规模应用潜力。相关研究成果发表在《自然·通讯》期刊上。