据pubs.acs.org网站4月22日消息，荷兰埃因霍芬理工大学（Eindhoven University of Technology）的研究团队首次将双波长体积微光刻技术（dual-wavelength volumetric microlithography，DWVML）应用于4D打印，提高了打印速度和效率。这种新技术能在几秒钟内打印出精确的三维微结构，其速度达到了每小时0.24立方毫米，比传统的液晶网络（LCNs）增材制造技术快了近百倍。研究团队还开发出一种适用于此技术的新型液晶光刻胶，能在大面积上逐层快速打印出2D、2.5D及高纵横比的3D微结构。这项技术不仅能加快生产速度，还能显著提高材料利用效率和生产精度，潜在的应用领域包括智能触觉表面、微机器人技术以及先进的微流体设备。此外，此项技术的突破为未来基于刺激响应的高分子材料微结构和设备的大规模生产开辟了新途径，预计将在材料科学和工程领域产生深远影响。相关研究成果发表于《美国化学会材料界面》（ACS Applied Materials & Interfaces）期刊。

消息来源：https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acsami.4c01883