据半导体行业观察6月13日消息，日本本筑波高能加速器研究组织（KEK）研究人员提出一种新的EUV光刻机替代方案。该替代方案涉及利用粒子加速器的能量来实现更经济、更快速、更高效的EUV光刻技术。研究人员称，EUV光刻的最佳替代候选方案是开发能量回收线性加速器，使用粒子加速器进行再生制动。该技术可以相对更低的成本产生数十千瓦的强大自由电子激光，以驱动多台下一代光刻机，从而降低先进芯片制造的成本。

消息来源：https://mp.weixin.qq.com/s/FK6BN5Wu50kkzWmUndtECQ