据路透社10月31日消息，美国计划投资8.25亿美元在纽约州新建一所半导体研发机构，以推动极紫外光刻（EUV）技术创新。美国商务部和国家半导体技术中心（NTSC）运营商Natcast公司表示，该设施将有望推动EUV技术的创新，EUV是制造半导体所必需的一种复杂工艺。美国商务部部长吉娜·雷蒙多（Gina Raimondo）表示，该设施的启动是确保美国在半导体创新和研发方面保持领先地位的一个重要里程碑。

消息来源：https://www.reuters.com/world/us/biden-administration-selects-new-york-semiconductor-rd-facility-2024-10-31/