据ICsmart网12月20日消息，俄罗斯发布EUV光刻机的自主研发路线图，目标是比荷兰半导体设备制造商ASML公司的光刻机更便宜且性能具有竞争力。据悉，俄罗斯的光刻机将采用波长为11.2nm的氙基镭射光源，而非ASML标准的13.5nm波长光源。因此所有光学元件以及相关支撑技术都需要针对新波长进行特别设计与优化，这一过程可能需要十年或更长时间。

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