据EEWORLD网6月27日消息，荷兰ASML公司技术高级副总裁约斯·本肖普（Jos Benschop）表示，已与光学组件独家合作伙伴德国蔡司公司一同启动了单次曝光实现5nm分辨率的Hyper NA光刻机开发，能满足2035年乃至更后阶段的产业需求。ASML目前出货的最先进光刻机采用High NA (0.55NA)光学系统，分辨率为8nm。本肖普表示，ASML尚未设定Hyper NA光刻机推出的目标日期，不过项目开发目标是将数值孔径（NA）进一步提升到0.7乃至更高。