据MIT科技评论网9月26日消息，中国华东理工大学研究团队联合打造出晶圆级光刻胶沉积技术。研究团队依靠该技术搭建起能在大尺寸晶圆上均匀沉积10余种下一代先进光刻胶的技术平台体系。具体来看，该技术是一种非晶态沸石咪唑酯骨架薄膜，目前全球最早报道的在溶液体系沉积咪唑类金属有机光刻胶的研究之一，并且具备晶圆级规模和纳米级的厚度精度。同时，研究团队通过实验和仿真交叉对比来获得旋涂化学液相沉积动力学特征，并实现了光刻胶的可控制备、全面表征和光刻验证。该技术及其制备工艺有望在超越极紫外的下一代光刻中得到应用。相关研究成果发表在《自然-化学工程》（Nature Chemical Engineering）期刊。