据凤凰网12月16日消息，日本印刷株式会社（DNP）宣布成功开发出电路线宽仅为10nm的纳米压印（NIL）光刻模板。该技术突破可用于相当于1.4nm等级的逻辑半导体电路图形化，并满足智能手机、数据中心以及NAND闪存等设备中使用的尖端逻辑半导体的微型化需求。纳米压印技术通过直接压印电路图形的方式，能够在部分生产环节替代EUV光刻技术，不仅可大幅减少约90%的芯片制造的耗能，设备采购成本也可降低90%。目前，该技术已正式启动客户评估流程，并计划于2027年实现量产。此外，DNP 还制定了雄心勃勃的营收目标，力争在 2030 财年将纳米压印相关业务的营收提升至40亿日元（约合1.8亿元）。