据路透社4月24日报道，日本尼康公司已对荷兰半导体光刻系统供应商ASML和德国光学及光电子学设备厂商卡尔蔡司提起诉讼，指控这两家公司未经授权而使用其光刻技术。当前，光刻系统被广泛应用于制造半导体，而阿斯麦又主导着半导体光刻机市场。评级机构“惠誉评级”1月发布的调研报告显示，在高端光刻机市场，ASML的份额高达90%。尼康在诉讼文件中称，要求ASML和卡尔蔡司对未授权使用专利技术而做出赔偿。

资料来源：http://www.reuters.com/article/us-nikon-asml-idUSKBN17Q0NM