据Technology Org网站8月3日消息，美国芝加哥大学和阿贡国家实验室科学家开发出纳米制造新方法。研究者提出利用化学涂层在光掩模下能与光发生反应来制备纳米材料（DOLFIN技术），打破目前光刻技术对材料种类的限制，实现多种材料（半导体、金属、氧化物或磁性材料）的纳米加工。该成果为纳米材料的制备开辟了新路径，或可推动下一代电子设备的发展。

http://www.technology.org/2017/08/02/new-method-promises-easier-nanoscale-manufacturing/